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在追求納米級工藝的精益世界里,一粒微塵或一次微弱的靜電放電都足以毀掉價值不菲的晶圓。超純水(UPW)作為半導體、平板顯示等行業(yè)的核心清洗介質(zhì),其純度本身卻帶來了一個棘手的難題——超純水帶電。這一難題曾長期困擾著工藝工程師,成為提升良率的“隱形殺手"。如今,日本NGK(日本礙子)公司以其劃時代的 MEGCON II+ PRC系列 產(chǎn)品,為這一行業(yè)痼疾提供了解決方案。
超純水因其電阻率高(≥18.2 MΩ·cm),近乎絕緣特性使其在高速噴射、流動與物體表面摩擦時,極易產(chǎn)生并積累靜電荷。其引發(fā)的后果是災(zāi)難性的:
靜電吸附(ESA): 帶電的基板會像磁鐵一樣吸附空氣中帶電的微小粒子,導致產(chǎn)品污染,良率驟降。
靜電放電(ESD): 積累的電荷瞬間放電,可擊穿精密脆弱的電路結(jié)構(gòu),造成產(chǎn)品直接報廢。
工藝不穩(wěn)定: 靜電力的存在會干擾某些精密工藝的進行,導致結(jié)果不可預測。
傳統(tǒng)的應(yīng)對方法,如使用異丙醇(IPA)添加或離子風棒,都存在效果不佳、引入污染或適用場景有限等缺陷。行業(yè)迫切需要一個徹、潔凈且高效的解決方案。
NGK的MEGCON II+ PRC系列并非簡單的迭代升級,而是一次從理念到技術(shù)的全面革新,它從根源上地解決了問題,其“終性"體現(xiàn)在以下幾個方面:
該方案的核心是向超純水中溶解食品級高純度二氧化碳(CO?)。CO?與水反應(yīng)生成碳酸,微弱的電離提供了足以中和電荷的離子,從根本上賦予了超純水“可控的"導電性。這種方法無化學殘留,CO?極易通過后續(xù)的脫氣步驟全去除,恢復超純水本征純度,杜絕任何二次污染的風險。
“PRC"(Performance & Reliability by Resistivity Control)是其靈魂所在。系列產(chǎn)品內(nèi)置高精度電阻率傳感器,構(gòu)成一個全自動的閉環(huán)控制系統(tǒng)。
實時監(jiān)控: 7x24小時連續(xù)監(jiān)測產(chǎn)出水的電阻率。
智能決策: 控制系統(tǒng)將實時數(shù)據(jù)與設(shè)定值進行比對。
精準執(zhí)行: 自動調(diào)節(jié)CO?注入量,以應(yīng)對前端水流量的任何波動。
這意味著,無論工藝條件如何變化,系統(tǒng)輸出的超純水電阻率始終穩(wěn)定在最佳工藝窗口(通常為1-10 MΩ·cm),從而保證靜電消除效果全。這才是真正的“解決方案",而非需要人工不斷干預的“設(shè)備"。
該方案能將工件表面的靜電電位穩(wěn)定控制在±50V的安全范圍內(nèi),遠超行業(yè)標準,徹杜絕了因靜電引起的吸附與放電現(xiàn)象,為產(chǎn)品良率提供了堅實保障。
高可靠性: 采用特殊中空絲膜技術(shù),效率高且持久耐用,適合7x24小時連續(xù)運行。
智能化管理: 警報歷史功能便于快速排查故障;密碼保護功能防止誤操作,確保工藝安全;支持遠程通信(RS-485/以太網(wǎng)),輕松接入工廠智能制造系統(tǒng),實現(xiàn)數(shù)字化管理。
選擇MEGCON II+ PRC系列,意味著選擇:
良率的顯著提升: 有效消除靜電吸附和放電,直接降低產(chǎn)品缺陷率。
工藝的穩(wěn)定: 閉環(huán)控制確保了批間、片間無差異的高質(zhì)量清洗。
運行成本的有效控制: 相比消耗性化學添加劑方案,長期運行成本更低,更環(huán)保。
邁向工業(yè)4.0的基石: 其智能化接口為構(gòu)建自動化、數(shù)字化的智慧工廠提供了可能。
它不僅解決了今天的問題,更滿足了未來制造業(yè)對工藝可靠性、可控性和可追溯性的所有要求。
超純水帶電不再是工藝工程師們無解的噩夢。日本NGK的MEGCON II+ PRC系列通過其創(chuàng)新的原理、精密的智能控制和無比的可靠性,真正做到了從根源上馴服靜電,為客戶提供了“一勞永逸"的解決方案。在競爭日益激烈的高制造領(lǐng)域,投資這樣一款設(shè)備,不僅是購買一個產(chǎn)品,更是為產(chǎn)品的最高品質(zhì)和生產(chǎn)的穩(wěn)定可靠上了一把至關(guān)重要的“安全鎖"。